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【风口研报·公司】CPU/GPU、DRAM、3DNAND等环节应用渗透，这家公司卡位半导体战略小金属隐形冠军，可灵活生产3N5N级高纯度产品；周策略：反弹阻力有
日期: 2026-08-16 20:40来源: 财联社电报域名: cls.cn
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①CPU/GPU、DRAM、3DNAND等环节应用渗透，这家公司卡位半导体战略小金属隐形冠军，可灵活生产3N-5N级高纯度产品；②周策略：反弹阻力有所增加，科技方向聚焦alpha机会