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三星电子开启“Z轴”时代 可垂直堆叠于AI芯片的HBM要来了

日期: 2026-08-05 11:09来源: 财联社域名: finance.eastmoney.com
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重要性:背景级 · 50·对象槽:unmatched·对象关系:sector_transmission·影响对象:sector:芯片、sector:存储、sector:AI、sector:证券·来源/栏目:东方财富·抓取时间:2026-08-05 11:09:02·信任分层:优先源

当地时间8月4日,在美国加州圣克拉拉举行的未来存储与内存大会(FMS)上,三星 电子 首次官宣了zHBM和zNAND-O两款概念产品。

根据三星 电子 首席技术官宋载赫的定义, 产品名中“z”的含义是Z轴,象征着将HBM或NAND沿着垂直方向堆叠。 其中,zHBM将 高带宽内存 直接垂直堆叠于AI加速器芯片之上,性能预计约为下一代HBM5的8倍。

在传统设计中,HBM内存堆叠与 AI芯片 通过硅中介层并排集成于同一封装内,业界称之为2.5D封装。而对于zHBM来说,其能通过最大限度地缩短AI处理器和内存之间的数据传输距离,以提供更高的带宽和更高的能效,从而实现大规模AI训练和推理所需的超快速数据处理。

三星 电子 声称,结合下一代晶圆键合技术, zHBM的内存密度可达HBM5的10倍以上, 能效提升3倍,热阻降低逾50%。该产品量产时间预期或设定在2029年前后,目前尚无明确量产时间表。

图源:三星电子

与zHBM一同推出的zNAND-O是一款高性能 NAND 闪存解决方案,专为端侧AI设计。

该产品结合了V-NAND垂直堆叠技术与硅通孔(TSV)技术从而进行3D封装,目标量产时间为2028年,将提供四层和八层两种版本。凭借高空间利用率和响应速度,该技术支持移动和端侧设备中的实时大规模数据处理。

从技术路径来看,zNAND-O与 SK海力士 HBF概念相近,两者本质上均为采用TSV技术的NAND闪存。然而三星电子方面澄清道, HBF的设计初衷是在服务器端填补AI加速器旁侧的内存分层空缺,而zNAND-O则定位为面向端侧设备存储大型模型。

图源:三星电子

除上述两款“z”系列产品外,三星电子在大会期间还发布了V10 BV-NAND,即首款采用晶圆键合(Bonding V-NAND)架构的3D NAND产品。

晶圆键合架构是一种将单元和电路分别制造,然后垂直连接的方法。通过将其与三层堆叠技术(分别制造三个堆叠层并将它们连接起来)相结合,实现了超过400层的堆叠。与上一代产品(V9)相比,V10 BV-NAND的存储密度提高了约58%。

眼下,各巨头正加速推动存储技术演化,以应对日益膨胀的AI推理需求。就在昨日, SK海力士 与 闪迪 宣布,推出高带宽闪存(HBF)的行业首套标准规范,进一步推动HBF标准化工作,以满足AI推理时代的需求。

招商证券 表示,存储优化技术改善整体推理成本,进一步推动内存需求用量。存储优化技术看似降低单设备内存用量,但实际演进方向是最大化单位内存承载的上下文量与用户数,从而改善AI服务的经济性、扩大整体市场规模,形成进一步推升存储需求的正向循环

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