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财联社7月15日电，阿斯麦表示，公司计划在2027年将2026年约130台的浸没式DUV光刻
日期: 2026-07-15 13:03来源: 财联社电报域名: cls.cn
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重要性：背景级 · 50·对象槽：unmatched·对象关系：sector_transmission·影响对象：sector:半导体、sector:芯片、sector:AI、stock:半导体·来源/栏目：财联社·抓取时间：2026-07-15 13:09:02·信任分层：优先源
①全球芯片是AI与经济核心基石,当前供应链高度集中,荷兰ASML的EUV光刻机垄断先进制程,2023至2025年年产量不足60台；②原子光刻、X射线光刻等新兴技术正挑战EUV垄断,华为已研发出无需极紫外光刻的新型半导体架构