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阿斯麦：计划2027年将低数值孔径（LowNA）EUV光刻机产能增加30%

日期: 2026-07-15 13:09来源: 财联社电报域名: cls.cn

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【阿斯麦：计划2027年将低数值孔径（Low-NA）EUV光刻机产能增加30%】财联社7月15日电，阿斯麦计划在2026年约65台低数值孔径（Low-NA）EUV光刻机产能基础上，2027年增加30%产能；公司正在研究2028年再增加30%产能的可行性