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SK海力士正积极扩大其DRAM制造中铪基高k前驱体的供应商范围

日期: 2026-07-14 11:43来源: 财联社域名: finance.eastmoney.com

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为打破供应链单一依赖， SK海力士正积极扩大其DRAM制造中铪（Hf）基高k（High-k，高介电常数）前驱体的供应商范围。这种前驱体长期以来一直受日本Tri Chemical Laboratories Inc. (TCLC)公司持有的专利保护，但这些专利将于今年晚些时候到期