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江丰电子:对超高纯金属溅射靶材产业化项目等达到预定可使用状态的时间进行调整
日期: 2026-06-29 19:25来源: baidu域名: m.jrj.com.cn
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重要性：背景级 · 48·对象槽：unmatched·对象关系：sector_transmission·影响对象：sector:半导体、sector:集成电路、stock:半导体·来源/栏目：m.jrj.com.cn·搜索词：2026年6月30日 电子板块新分支 半导体材料催化剂·入口：同搜索词资讯·抓取时间：2026-06-30 11:35:14·信任分层：优先源
江丰电子公告,公司向特定对象发行股票募投项目之“宁波江丰电子年产5.2万个超大规模集成电路用超高纯金属溅射靶材产业化项目”、“年产1.8万个超大规模集成电路用超高纯金属溅射靶材生产线技改项目”和“宁波江丰电子半导体材料研发中心建设项目”达到预定可使用状态的时间进行调整。原计划于2