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捷佳伟创掩膜喷墨打印设备交付头部晶硅企业
日期: 2026-06-29 18:58来源: 第一财经域名: finance.eastmoney.com
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重要性：背景级 · 53·对象槽：unmatched·对象关系：sector_transmission·影响对象：sector:光伏·来源/栏目：东方财富·抓取时间：2026-06-29 19:00:01·信任分层：优先源
近日， 捷佳伟创 自主研发的专用高精度掩膜喷墨打印设备正式交付国内头部晶硅光伏企业。该设备专为BC 电池 背面Poly层图形化工艺定制，替代传统激光开槽、干膜光刻方案，实现BC 电池 钝化层精细化图形化低成本量产